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(富士康)遮光元件陣列的制造方法

专 利 号:CN200910310278.8 专利类型:发明专利
所属行业:通信/电子/数码 - 通信系统 有效期限:2009-11-24 至 2029-11-24
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专利详情

本发明涉及一种遮光元件阵列的制造方法,其包括:提供一块透光平板;于该透光平板上设置遮光层;于该遮光层上形成磁屏蔽层;于该磁屏蔽层上涂敷光阻层,该光阻层包括多个间隔分布的中央区域及围绕该多个中央区域的周边区域;曝光、显影,以去除该多个中央区域上的光阻;对该磁屏蔽层及遮光层进行蚀刻,以使与该多个中央区域正对的透光平板暴露在外;去除该周边区域上的光阻,以形成一个遮光元件阵列。通过该遮光元件阵列制造方法所制的遮光元件阵列不仅具有遮光功能且可以防止外界电磁干扰,从而可以提高具有该遮光元件阵列的镜头模组阵列的成像品质。 (富士康专利)注:价格为专利祼价,未包含转让官方费用

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